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豊田工業大学 超微細加工領域 支援一覧
（ハイブリッド化ナノ構造ものづくり支援）
まずは利用してみたい支援要素があるか検索して下さい。以下に支援要素一覧を示します。
ご質問はお気軽に担当者までお願いします。
シリコンプロセス技術を基盤として、化合物半導体、カーボン系、有機物等の薄膜構造形成や、
各種ナノ構造体の形成、評価を支援します。さらにこれらのハイブリッド化加工と評価を中心とした
「超微細加工」領域における支援を実施します。
豊田工業大学支援要素一覧
（豊田工業大学 大学院工学研究科）
それぞれの詳細説明は、pdfファイルが支援要素名にリンクされていますので参照下さい。
支援要素名 |
担当者（メール アドレス、電話番号） |
支援の内容･設備 |
シリコン超微細加工
プロセスの要素技術と
評価支援
| 共同利用
クリーンルーム施設
佐々木実教授
mnr-sasaki＠
toyota-ti.ac.jp
近藤憲司技術職員
kenkondo＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1729
梶原建専任支援員
kkajiwara＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1729 |
左記クリーンルームの、主としてシリコン系プロセス装置を
利用して、各種素子試作や各種機能薄膜等との
複合化プロセスと評価を担当する。
化合物系では、シリコン系と分離したフォトリソ、洗浄、
ウェットエッチング等の薬品処理も実施可能である。
主な支援項目
① アライナ用のマスク作製や電子線描画による直接露光
② イオン注入や熱拡散による不純物導入プロセス
③ ウェットおよびドライエッチングプロセス
④ 試作プロセス途中および完了後の評価など
（必要に応じて関係研究室の支援による）
主な機器：
マスク作製装置、EB露光装置、マスクアライナー、RIE装置、
イオン注入装置、酸化・拡散炉、スパッタ装置、
ダイシング装置、ワイヤーボンダ等のウェハープロセス装置、
エリプソメータ、ライフタイム測定器、C－V測定器 等
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化合物
半導体ナノ構造の
（含、有機物
との
複合化）と
評価支援 |
榊裕之教授
h-sakaki＠
toyota-ti.ac.jp
神谷格教授
kamiya＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1769 |
分子線エピタキシー法によるIII-V族 (AlGaInAs、AlGaInSb系)の
ナノ薄膜、超格子、量子ドットなど、半導体ナノ構造の形成、
並びに薄膜蒸着による有機物との複合化。
上述のナノ構造の電子物性（移動度・磁気伝導・
トンネル分光など）及び光物性（蛍光・吸収・光伝導性）の
計測と評価。
MBE、有機MBE、蛍光および光吸収の分光計測、
蛍光寿命測定、弱磁場ホール効果・強磁場伝導率計測装置、
半導体解析装置、原子間力顕微鏡、等を利用。
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化合物半導体
デバイス構造・
シリコン・フラーレン
ナノ構造の作製
と評価支援
| 山口真史特任教授
masafumi＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1875
大下祥雄准教授
y_ohshita＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1876
小島信晃助教
nkojima＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1877 |
分子線エピタキシー装置によるC60（エピタキシャル）薄膜の
作製支援。化合物半導体、シリコン、フラーレン等
半導体ナノ構造の物性評価支援。結晶性解析Ｘ線回折装置
（ロッキングカーブ測定、逆格子空間マッピング測定、
極点図解析等）。
X線光電子分光装置（元素分析、化学結合状態、
電子状態分析、空間マッピング測定可能）。
DC & ACホール効果測定装置
（交流磁場を使用したACホール効果測定に
より高抵抗試料（～1012Ω）の測定が可能）。
フォトルミネッセンス測定装置（励起レーザ：
LD励起グリーンレーザ（波長532nm）、
He-Cdレーザ（波長325nm）、測定温度：4.2～500K、
空間マッピング測定可能）。
分光エリプソメトリ装置
（測定波長：350～1700nm、入射角可変）。
太陽電池特性分光感度測定装置（照射面積20×20m㎡、
照射強度100mW/c㎡（AM1.5））
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カーボン
ナノプローブ・
ナノチューブ
及び金属微粒子の
形成と評価支援
| 吉村雅満教授
yoshi＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1851
柳瀬明久准教授
ayanase＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1845
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高性能センサー等のデバイス素子を実現することを
目的とした、局所部位へのカーボンナノチューブ(CNT)
成長支援。高分解能プローブ顕微鏡探針等への応用が可能。
CNT探針を用いたプローブ顕微鏡による
ナノ構造評価。短パルスYAGレーザー照射による
ナノ，マイクロ構造の加熱。
抵抗加熱法による真空蒸着の支援。
カーボンナノチューブ成膜装置
（マイクロ波500W、熱ＣＶＤも可能）。
CNT探針－原子間力顕微鏡
（原子～ナノメートルオーダーの空間分解能）。
ナノ秒パルスYAGレーザー装置
（波長532 nm，エネルギー 200 mJ／パルス）。真空蒸着装置。
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有機物および
高分子系材料の
ナノ構造・物性評価
| 田代孝二教授
ktashiro
＠
toyota-ti.ac.jp
052-809-1790
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各種の有機材料、特に高分子材料について、ナノスケールで
その階層的な構造をＸ線回折やラマンおよび
赤外分光法で解明。
理論的理解のための計算機シュミレーションなどに関する
学術・技術支援。構造と種々の物性との相関解明の支援。
高輝度小角X線散乱装置、高分子専用Ｘ線装置、
単結晶解析用Ｘ線装置、ラマン分光計、赤外分光計、
遠赤外分光計、2次元顕微赤外イメージング、
分子動力学計算・量子化学計算システム等
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電子メールの全角＠は利用時に半角@に変換してください。
支援要素の選択にあたり、事前に問い合わせ（技術相談等）が必要な場合は
下記へご連絡ください。
豊田工業大学 研究支援部 研究協力グループ
後藤 文夫
電話： 052-809-1725
FAX ： 052-809-1721
e-mail： nanonet_office＠toyota-ti.ac.jp
「ナノ・ネット支援」利用に際しての留意事項」
本学が担当する「ナノ・ネット支援」の利用については、以下の５項目の事項を
ご了承の上、お申し込み下さい。
１．「成果公開の原則と特例」
文部科学省の方針に従い、「ナノ・ネット支援」の利用者は、申し込み「課題名」を公開することに
同意するとともに、年度末に「成果報告書」（A4 ２枚程度）を提出することが義務となります。
但し、知的財産権保護などのために時間を要する場合、報告書の公開時期を、協議の上、
次年度の末まで繰り延べることができます。
なお、成果報告書による公開に馴染まない課題については、「ナノ・ネット支援」とは別の枠組みで、
本学自主事業として対応できる可能性がありますので、ご相談ください。
２．「守秘義務」
本支援の実施に際して機密事項を知り得た場合、支援の利用者と実施者の双方とも、
相手方の許可なくこれを第三者にもらさないことを合意頂きます。
３．「知的財産権およびノウハウ」
先に第１.項に記したように成果は公開を原則としており、支援の申込み手続きの段階では、
知的財産権やノウハウなどに関する契約は締結しません。但し、支援業務の実施の中で、
支援の利用者や実施者が、知的財産権などを認知した場合、その時点で両者が協議して対応します。
４．「事故に伴う負傷の防止と補償」
設備等の利用に際しては、利用者側と支援者側の双方で、事故とこれに伴う負傷の防止に
最善の努力を行うことを合意し、さらに、万一事故に伴って利用者に負傷などが生じた場合、
利用者と利用者の所属機関が全て責任を負うことを誓約いただきます。
５．「支援に伴う経費の一部負担」
本学が「ナノ・ネット支援」の枠組みで行う支援業務に伴う経費は、ある範囲までは
支援プログラムによって賄われますが、それを越えた部分については、定められた基準に
基づき、利用者の所属機関に、一部の経費をご負担頂きます。
（詳細については、ご相談下さい。）
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