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第38回 半導体プロセス実習・講習会を開催しました(9/11, 12)

2025.09.17

第38回半導体プロセス実習・講習会を開催いたしました。

毎年恒例となりました、半導体プロセス実習・講習会を開催いたしました。今回の実習・講習会では、少人数制でクリーンルーム内において半導体微細加工や測定・評価の一端を実際にご体験いただきました。また、これに関連して、本学教員による講義として、プロセス技術、半導体デバイス技術、マイクロマシンの基礎と応用について学んでいただきました。ご参加いただいた皆様、誠にありがとうございました。

「プロセス技術」・「半導体デバイス」・「マイクロマシン」の基礎について学ぶ (講義)

〇9/11(木) (1日目)

プログラム内容、講師等
13:15~ 受付開始
13:30~ オリエンテーション 教授 沼田 敏典
14:00~ 講義① 半導体プロセスの基礎 講師 小島 信晃
15:10~ 講義② 半導体デバイス技術 教授 沼田 敏典
16:20~ 講義③ ホトリソグラフィの微細パターン転写技術とMEMS デバイスでの事例 教授 佐々木 実
17:20~ 終了

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本学教員による「半導体プロセスの基礎」の講義の様子。受講者からは「初心者にも興味を引く内容で、丁寧で説明もわかりやすい」と好評でした。

クリーンルームで半導体微細加工の一部を体験 (実習)

〇9/12(金) (2日目)

プログラム内容、講師等
09:30 集合
09:40~ 半導体プロセス実習(クリーンルーム) 薄膜加工実習(ホトリソ工程)、クリーンルーム内の機器等紹介
12:10~ 昼休憩
13:10~ 半導体プロセス実習(クリーンルーム) 薄膜加工実習(エッチング工程)、クリーンルーム内の機器等紹介
15:05~ 半導体プロセス実習(実験室ほか) 膜厚測定実習、MOSキャパシタ特性評価
16:30 終了

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本学スタッフによる機器説明の様子。「実際の装置が見れたことは良い体験」「装置の中身について詳しく説明がありわかりやすかった」との声が聞かれました。

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薄膜加工実習(エッチング工程)の様子。受講者からは「ウェハを実際にさわることができ、貴重な体験でした」との声をいただきました。

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MOSキャパシタ特性評価の様子。電気的特性の評価の一端を体験していただきました。

講習会についてのお問い合わせ・企業向け個別開催のご相談について

本実習・講習会にご興味・ご関心のある方は、下記までお問合せください。過去の実習・講習内容は、こちらからご確認いただけます。

【企業向け個別開催のご相談について】企業様のニーズに合わせてカスタマイズした、個別講習会の開催も行っております。ご希望の内容など、ご相談に応じますので、ご興味がございましたらお気軽にお問い合わせください。

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<お問合せ>

豊田工業大学 研究支援部

[電話]052-809-1723

[E-Mail] research★toyota-ti.ac.jp(★を@に変更してください)