対外イベント
2025年度 フォトマスク製作とパターニング実習・講習会
2026.01.07
本年度は、例年の実習・講習会（9月実施）に加えて、パターニングに関する実習・講習会を開催します。マスクレス露光装置とマスク露光による微細パターン転写を題材に、フォトリソグラフィの基礎を習得して頂けます。マスク製作のクロム（Cr）エッチングではアンダーエッチングが入る様子について、マスク露光のパターン転写では光回折の影響について、学ぶ内容です。
- 詳細は、こちらからご確認ください。
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実習・講義の題名 |
概 要 |
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実習A |
マスクレス露光装置を用い、用意された設計パターンをCrマスク原板に転写する。フォトレジストの現像とパターン評価、CrエッチングとCr幅の評価までを行う。 |
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実習B |
マスクアライナ装置を用い、製作したCrマスクのパターンをシリコンウェハ上のレジスト膜に転写する。レジスト成膜から現像、光回折の影響評価までを行う。 |
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講義 |
フォトリソグラフィの基本である、マスク露光においてパターン転写を精度良く行う技術について、考え方と実際的な内容について、説明する。 |
本実習・講習会は、文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）事業活動の一環です。
※文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ（設備共用）」事業を活用した事例
開催日時
2026年3月3日（火）9:00-17:00
会場
参加費
一 般：40,000円/人
大学等：25,000円/人
参加費には、消費税、昼食代を含みます。
受講料は、申込期限：2026年2月20日（金）までに銀行振込にてお支払い下さい。
お振込みについては、申し込み完了後、個別にメールにてご案内いたします。
概要
＜スケジュール＞
| 時間 | 内容 |
|---|---|
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9:00～ |
受付開始 |
| 9:10～ |
オリエンテーション |
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9:45～ |
実習A：マスクレス露光装置によるマスク製作（待ち時間に関連事項説明） |
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11:10～ |
現像 |
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11:35～ |
レジストパターン幅の評価 |
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12:00～ |
昼食（食事付き※学食） |
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13:00～ |
マスクのCrエッチング |
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13:45～ |
Crエッチング時間に対するCr幅の評価 |
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14:30～ |
実習B：Crマスクを用いたマスクアライナ装置によるパターニング |
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15:00～ |
パターニング結果（光回折の影響）の評価 |
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15:30～ |
Crとレジスト膜厚の評価 |
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16:15～ |
講義：パターン転写に関する講義 |
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17:00～ |
技術相談、アンケート回答 |
定員
３名※先着順です。
参加申し込み
お申込みフォーム
https://forms.gle/NkMEFjJjFseSSDHV6
↑上記フォームにアクセスできない場合は、下記メールアドレスにご連絡をお願い致します。
豊田工業大学 ARIM事務局
TEL:052-809-1780 E-mail: arim_office@toyota-ti.ac.jp
申込締切
2026年2月20日（金）
お問い合わせ
豊田工業大学 ARIM事務局
TEL:052-809-1780
E-mail: arim_office@toyota-ti.ac.jp